24 nm光刻机

没有24nm光刻机的说法，24nm说的是芯片制程。

目前主流光刻机按光源划分成三代：紫外光（UV），i线：365nm 可生产32-90纳米芯片。

深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm 可生产7-28纳米芯片

极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm

可生产5纳米及以下芯片。