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2024-06-21 09:56
电解抛光: 电解抛光是对材料表面的细小凸起的选择性溶解,使表面光滑。此法在消除阴极反应的影响方面比化学抛光更为有效。电化学抛光分为两步: 在电解过程中,溶解产物在电解液中扩散,导致材料表面几何粗糙度下降, Ra>1微米。 阳极化效果较好,表面光亮度增加, Ra<1μ m。 机械磨削: 抛光方法是通过切削材料表面的塑性变形,除去抛光后的凸部,得到光滑的表面,通常是用油石、羊毛轮、砂纸等材料进行抛光,以手工为主,特殊零件如回转体表面,可用转盘等辅助工具,对表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛采用专用模具,研抛液中加入磨料,压紧工件,进行表面加工,进行高速旋转运动。利用该工艺可以获得具有0.008微米 Ra的表面粗糙度,是目前最佳的抛光方法。 |