光刻厂能做多少纳米的

光刻厂可以做到10纳米以下的微米级别的芯片制造。这是通过利用高分辨率的光刻技术和先进的制造工艺实现的。随着技术的不断发展，光刻技术的分辨率不断提高，因此可以制造出更小的芯片。但是，制造更小的芯片需要更高的制造成本和更复杂的工艺流程，因此实际生产中需要平衡技术和成本的因素。

光刻技术是一种重要的半导体制造工艺，可实现微电子器件的高精度制造。目前，光刻厂可以生产10纳米以下的微电子器件。随着技术的不断发展，光刻技术将不断提高其分辨率和生产能力，有可能实现更小尺寸的微电子器件的制造。