光刻厂能造出几纳米的芯片

光刻技术是一种制造芯片的重要技术之一，它可以实现高精度的芯片制造。目前，光刻技术的发展已经让芯片制造达到了纳米级别的精度。一般来说，光刻机可以制造出几十纳米的芯片，甚至可以做到更小的尺寸，如22纳米或14纳米。不过，制造芯片的尺寸不仅与光刻技术有关，还与其他诸如晶圆制备、材料选择等因素有关。因此，芯片尺寸的具体情况需要结合制造工艺和设备等多方面因素来进行评估。