什么是溅射靶材

溅射靶材是一种用于制备薄膜和表面改性的材料，通常是由金属或化合物制成的。在溅射过程中，靶材被轰击，产生高能离子，从而使靶材表面的原子或分子被剥离并沉积在基底上，形成所需的薄膜或表面改性层。溅射靶材的制备需要高纯度和均匀性，以确保薄膜的质量和稳定性。常见的溅射靶材有金、银、铜、铝、二氧化钛、氧化锌等。