磁控溅射对靶材的要求是什么

首先谈谈膜厚与哪些参数相关：

镀膜时间最相关（其他参数不变),镀膜时间越长肯定越厚。

其次，功率大小，气体流量大小，样品和靶材之间的间距大小都有关系。

控制膜厚，首先要能测量膜厚，金属薄膜的话，XRF比较方便，但是要参照标准品建立程序（程序是依照标准样片建立的，标准片越准，你的测量值会越准确）。 金属氧化物薄膜，椭偏仪。不确认材料又比较厚的，台阶仪。AFM可以测量比较薄的薄膜。

膜厚测量应该可以写一本书。。。简单描述下。